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潔凈車間的溫濕度主要是根據工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的進步，呈現了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求今后還要羅列，但作為總的原則看，因為加工精度越來越精細，所以對溫度波動規模的要求越來越小。例如在大規模集成電路出產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱脹大系數的差要求越來越小。直徑100um的硅片，溫度上升1度，引起了0.24um線性脹大，所以必須有±0.1度的恒溫，一起要求濕度值一般較低，因為人出汗今后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間溫度不宜超越25度，濕度過高產生的問題更多。相對濕度超越55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發生在精細設備或電路中，會引起各種事端。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片外表粘著的灰塵化學吸附在外表難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又因為靜電力的作用使粒子也簡單吸附于外表，一起很多半導體器件簡單發生擊穿。對于硅片出產更佳濕度規模為35—45%。